原理：

   1、配備了合適濾光器的氙弧燈在維護適當時，用來模擬日光中紫外區(qū)域和可見光區(qū)域的光譜能量分布。

   2、試樣暴露于不同等級的光、熱、相對濕度以及水的可控環(huán)境條件中。

   3、暴露條件因以下選擇而變化：

   a 濾光器；

   b 輻照度；

   c 光爆露過程中的溫度；

   d 當暴露條件需控制溫度時，在光照和暗周期過程中試驗箱的空氣相對濕度；

   e 試樣潤濕周期；

   f 水溫和潤濕周期；

   g 光照和暗周期的相對時間長度。

   輻照度均勻性

   樣品暴露面上任一位置的輻照度至少應為該暴露面最高輻照度的80％，如果不能滿足此要求，應按ISO 4892-1 對暴露樣品進行周期性換位。

   注：對于一些高反射率的材料，即使當暴露設備內(nèi)的輻照度均勻性在極限范圍內(nèi)而不要求周期性換位時，仍然推薦用周期性換位來確保樣品暴露的均勻性。